射频等离子体聚合沉积六甲基二硅氧烷

摘要：

为研究新颖环保的材料表面改性技术,通过射频等离子体聚合方法聚合沉积六甲基二硅氧烷(HMDSO)薄膜,并使用发射光谱、红外光谱、扫描电镜、原子力显微镜等测试方法,研究了HMDSO聚合膜的化学结构和物理形貌.实验结果表明,等离子体放电空间内的活性粒子对聚合膜的组成有直接影响.HMDSO等离子体聚合膜中含有Si-O、-CH3、-OH、CO、C-O等官能团,其表面形貌为微米颗粒堆积膜,是一种新颖的聚合物膜.

关键词：等离子体聚合、射频放电、六甲基二硅氧烷

所属期刊栏目：27

分类号：O539(等离子体物理学)

资助基金：辽宁省教育厅资助项目05L083

在线出版日期：2008-05-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：76-79