10.3969/j.issn.1006-7736.2007.03.027
Cu/Ni多层膜的调制波长与力学性能的关系
为研究Cu/Ni多层膜的调制波长与力学性能的关系,采用计算机控制的单槽双脉冲控电位沉积系统,在Cu基体上沉积Cu/Ni多层膜,分别采用扫描电镜和纳米压痕技术对Cu/Ni多层膜的截面和硬度进行了测试.结果表明:电沉积方法制备的Cu/Ni多层膜具有良好的周期结构;在调制波长为37 nm时硬度达到极值;在调制波长小于37 nm时其硬度值明显下降.实验结果符合理论分析中多层膜的硬度随调制波长的变化规律,但临界调制波长大于理论计算结果.
Cu/Ni多层膜、调制波长、力学性能、电化学沉积、单槽法
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O484.5(固体物理学)
国家自然科学基金50071014;交通部博士基金200232522504
2007-10-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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