10.3969/j.issn.1006-7736.2002.03.026
常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮工艺的优化
利用介质阻挡放电,在常压下进行非平衡等离子体渗氮.通过正交试验研究渗氮工艺参数的作用,分析渗氮膜层的相结构及其显微组织,确定常压下较为理想的渗氮工艺参数.试验结果表明,新工艺能在较短时间内获得较高的表面硬度与理想的扩散层;整个工艺过程操作简便,省去了真空放电下必需的真空设备,是一种极具发展前景的新型渗氮工艺.
电介质阻挡放电、正交试验、非平衡等离子体、渗氮、表面改性、热处理
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TG156.81(金属学与热处理)
2004-01-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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