10.3969/j.issn.1006-7736.2001.03.024
常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮
利用介质阻挡放电,在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮.研究表明,该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层,而且省去了真空放电下必须的真空设备,整个工艺过程操作简便,是一种很有发展前景的新工艺.此外,还分析了渗层深度及硬度随放电间隙不同的变化规律.
金属热处理、电介质阻挡放电、常压、等离子体渗氮
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TG156.82(金属学与热处理)
高等学校博士学科点专项科研项目9701 5102
2004-01-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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