基于正交方法的射线检测暗室处理技术的试验

摘要：

本文针对射线检测暗室处理技术的影响因素,以显影、定影作为主要影响指标,采用正交试验法分析了在不同的显影温度、显影时间和定影温度下对底片质量的影响.确定了对是影响暗室处理技术的最优组合.试验通过对每组胶片进行对比得到的结果表明:在显影温度20℃,显影时间5min,定影温度24℃的情况下,得到底片灵敏度最高.

关键词：暗室处理、影响因素、温度、时间

分类号：O434.1(光学)

在线出版日期：2020-08-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：273-274