10.3969/j.issn.1002-087X.2011.12.033
Ag掺杂对Bi2(Te0.95Se0.05)3薄膜热电功率因子的影响
采用瞬间蒸发技术在温度为473 K的玻璃基体上沉积了厚度为800 nm的Ag掺杂Bi2(Te0.95Se0.05)3热电薄膜.利用X射线衍射(XRD)技术对薄膜的物相结构进行表征,采用表面粗糙度测量仪测定薄膜厚度,薄膜的电阻率采用四探针法在室温下进行测量,在室温下对薄膜的Seebeck系数进行表征.Ag的掺杂浓度为0.2%,热电功率因子提高到16.1μW/(cm·K).Ag掺杂浓度从0.25%增加到0.5%,薄膜为p型半导体,热电功率因子呈减少的趋势.
热电薄膜、掺杂、热电功率因子
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TB910(计量学)
江西省教育厅科技资助项目GJJ11625
2012-03-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
1583-1585