超疏水金属基膜的制备及其在气隙式膜蒸馏中的应用

摘要：

通过铜电沉积+原位氧化+化学修饰的方法在2 000目不锈钢网基体上制备了超疏水不锈钢基膜(SH-SSM),并应用于气隙式膜蒸馏(AGMD).采用扫描电镜、接触角测量仪、X射线衍射仪和X射线能谱仪对所制备的疏水表面进行表征.探究了最佳的化学修饰条件及所制备的SH-SSM在气隙式膜蒸馏中的运行情况.结果表明,当正十二硫醇用量为2 μL/cm2时能够制备出水接触角为 164°、滚动角为 1.7°的超疏水表面.SH-SSM在气隙式膜蒸馏组件处理 30 g/L NaCl溶液的过程中显示出良好的稳定性和耐用性,运行10 h内的膜通量维持在4.5 kg/(m2·h)左右,盐的截留率大于98.5%.

关键词：气隙式膜蒸馏、不锈钢网、超疏水表面、铜电沉积、原位氧化、化学修饰、膜通量

所属期刊栏目：42

分类号：TQ028.8;TB333(一般性问题)

在线出版日期：2023-08-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：21-29