物理气相沉积制备高熵氮化物涂层的进展
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.19289/j.1004-227x.2023.03.008

物理气相沉积制备高熵氮化物涂层的进展

引用
从体系和沉积方法入手,分析了强氮化金属元素体系、弱氮化金属元素体系及含非金属元素体系在结构上的特性和共性给高熵氮化物涂层性能带来的影响,阐述磁控溅射和电弧离子镀膜技术沉积涂层的表面形貌、微观结构及性能方面的差异性,并分别总结这些制备技术的优缺点.最后对高熵氮化物涂层体系在结构成分设计和沉积方法两方面未来的研究方向进行了展望.

高熵氮化物涂层、物理气相沉积、磁控溅射、电弧离子镀、力学性能、综述

42

TG174.444;TG174.453(金属学与热处理)

国家自然科学基金;广东省科技计划;广州市青年科技人才托举项目

2023-03-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共10页

40-49

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

电镀与涂饰

1004-227X

44-1237/TS

42

2023,42(3)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn