磁控溅射制备高熵氧化物薄膜的阻挡扩散性能

摘要：

利用磁控溅射在Ni-8at％W合金基体表面沉积(CoCrNiTa)Ox高熵氧化物薄膜,研究了它在1000°C、100 h的真空扩散条件下的高温稳定性及其阻挡Ni-30at％Cr涂层与Ni-8at％W合金基体中元素互扩散的性能,采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、能谱仪、纳米压痕仪及划痕仪对薄膜进行研究.结果表明:(CoCrNiTa)Ox高熵氧化物薄膜较为致密,为非晶结构.随着溅射时间延长,薄膜纳米硬度上升的趋势很小,但膜基结合力增幅较大.(CoCrNiTa)Ox扩散障具有较好的高温稳定性,对Cr元素具有较好的扩散阻挡性能.

关键词：磁控溅射、高熵氧化物、铬、扩散障、膜基结合力

所属期刊栏目：41

分类号：TG174.44(金属学与热处理)

在线出版日期：2022-06-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：641-646