电压对Zr-4合金Na2SiO3−(NaPO3)6−K2ZrF6体系微弧氧化膜性能的影响

摘要：

在Na2SiO3?(NaPO3)6?K2ZrF6体系中采用微弧氧化法以Zr-4合金为基材制备出陶瓷膜层.利用扫描电镜、粗糙度仪、X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪和电化学工作站研究了电压对膜层结构与性能的影响.结果表明,膜层表面呈典型"火山口"形貌,电压升高后膜层粗糙度与致密层厚度增加.膜层主要由单斜氧化锆相(m-ZrO2)和四方氧化锆相(t-ZrO2)组成,Si、P等元素分别以非晶态氧化物的形式存在.经微弧氧化处理后,Zr-4合金的腐蚀电流密度下降,电阻增加,耐蚀性明显提高.480 V下制备的膜层的耐蚀性最优.

关键词：锆合金;微弧氧化;电压;粗糙度;厚度;电化学腐蚀

所属期刊栏目：40

分类号：TG174(金属学与热处理)

在线出版日期：2021-10-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1352-1358