氮氩气流量比对磁控溅射氮化钛薄膜微观结构的影响

摘要：

采用扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)研究了氮气流量(5、10、25、50 sccm)及氮氩气流量比(4∶1、3∶2、2∶3、1∶4)对磁控溅射TiN薄膜微观形貌和相组成的影响.结果显示,所得样品具有纳米级TiN薄膜的基本特征.当N2与Ar的总流量为5 sccm,而它们的流量比为4∶1时,可以制得品质较好的蓝紫色TiN薄膜.

关键词：氮化钛、磁控溅射、氮气、氩气、流量比、微观结构、颜色

所属期刊栏目：39

分类号：TB742(真空技术)

资助基金：黑龙江省自然基金;牡丹江师范学院项目;黑龙江省高等教育教学改革项目

在线出版日期：2020-05-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：405-409