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10.19289/j.1004-227x.2019.13.001

钴离子和镍离子用量对电镀硬金层显微硬度和电接触性能的影响

引用
为了在提高零件表面金层硬度的同时不降低表面电接触性能,在普通镀金液中加入0.2 ~ 0.6 g/L钴或0.1 ~ 0.5 g/L镍离子,电镀得到了金黄色的Au?Co合金镀层(Co质量分数为0.1% ~ 0.7%)和Au?Ni合金镀层(Ni质量分数为0.2% ~ 1.6%),其显微硬度分别为150 ~ 190 HV和170 ~ 250 HV.2种硬金层都均匀、细致,结合力良好,接触电阻低于2 mΩ.降低黄铜基体的表面粗糙度有利于降低硬金层的接触电阻.

黄铜、电镀、硬金、金?钴合金、金?镍合金、显微硬度、接触电阻

TQ153.2

国家自然科学基金U1637204;国家重点研发计划2018YFB2002002

2019-08-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

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