黄铜基底上铜/锌复合氧化物薄膜的制备及光电化学性能研究

摘要：

通过草酸腐蚀和热氧化在α?黄铜基底上制备出铜/锌复合氧化物薄膜,探究了草酸质量分数(0.1％～15.0％)和加入少量(0.1％～5.0％)乙酸对复合氧化膜光电化学性能的影响.利用扫描电镜、X射线衍射、透射电镜、X射线光电子能谱等手段分析了复合薄膜的形貌、结构和表面化学特性.在0.1 mol/L Na2SO4电解液中测试了复合薄膜在零偏压下的可见光光电流响应.结果表明,经60 °C的10.0％草酸腐蚀及300 °C热氧化可制备出光电化学性能较好的氧化物薄膜,零偏压下的阴极光电流密度为19 μA/cm2.氧化膜中有纳米片和微米颗粒两种组织结构.10.0％草酸+1.0％乙酸的溶液腐蚀后热氧化制备的样品中由于微米颗粒的裂解而增大了氧化膜的比表面积,因此在零偏压下的阴极光电流密度增大到42 μA/cm2.

关键词：黄铜、氧化膜、草酸、乙酸、腐蚀、光电流

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分类号：O472.8;TN304.2(半导体物理学)

资助基金：国家自然科学基金21173196

在线出版日期：2018-08-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：484-491