镍基电沉积制备聚8-羟基喹啉薄膜

摘要：

采用8-羟基喹啉的碱性水溶液,分别通过循环伏安法和恒电位法在镍基体上电沉积制备了聚8-羟基喹啉薄膜.探讨了2种方法制备聚8-羟基喹啉薄膜的电化学行为,并对比研究了不同方法所得试样的表面形貌和耐蚀性.结果表明,循环伏安法电沉积聚8-羟基喹啉的氧化峰为0.563 V和0.481 V,还原峰则位于0.318 V;恒电位法电沉积聚8-羟基喹啉包含聚合物成核和长大2个过程.恒电位法所得聚8-羟基喹啉薄膜较循环伏安法所得膜更平整,耐蚀性更好.聚8-羟基喹啉薄膜增大了基体表面的电荷转移电阻,隔绝了腐蚀介质,从而有效增强了镍基体的耐蚀性.

关键词：镍镀层、羟基喹啉、电沉积、聚合、循环伏安法、恒电位法、耐蚀性

所属期刊栏目：32

分类号：TQ153.2

资助基金：中央高校基本科研业务费专项中南大学项目2013zzts172

在线出版日期：2014-02-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1-4