电沉积钕铁硼磁性薄膜工艺

摘要：

采用循环伏安法在铜电极上进行了NdFeB稀土永磁薄膜电沉积的初步探索.镀液组成为:FeCl240g/L,H3BO336g/L,抗坏血酸1.2 g/L,十二烷基硫酸钠0.1 g/L,甘氨酸、氯化铵各30 g/L(作为配位剂),NdCl38～16 g/L.探讨了配位剂对该体系镀液循环伏安特性的影响,并研究了镀液中NdCl3含量和电沉积终止电位对镀层形貌和外观的影响.结果表明,镀液中加入配位剂后,Fe2+起始沉积电位负移,而Nd3+的还原电位正移.Fe元素能诱导Nd元素进行共沉积,实现在水溶液中电沉积制备稀土永磁薄膜.循环伏安沉积的终止电位和镀液中NdCl3的含量对NdFeB薄膜的形貌和外观影响较大.镀液中NdCl3为8 g/L、终止电位为-1.7 V时,可制得Nd的质量分数高达5.69％、较光亮致密的NdFeB薄膜.

关键词：钕铁硼、永磁铁、薄膜、电沉积、循环伏安法、水溶液、配位剂

所属期刊栏目：32

分类号：TQ153.2

在线出版日期：2013-05-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1-4