10.3969/j.issn.1004-227X.2012.02.001
电子电镀添加剂的分子设计
提出了电镀添加剂设计的概念,给出了锡基电子电镀添加剂设计的基本方法.由于电镀添加剂作用的复杂性,要得到性能优异的添加剂,必须从分子水平上对添加剂进行设计,而添加剂在镀层中的夹杂是通过化学夹杂和物理夹杂引起,从分子水平上设计的低吸附型镀锡添加剂可以减少有机分子的夹杂.
电子电镀、镀锡、添加剂、分子设计
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TQ153.13
2012-04-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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