ZE10镁合金微弧氧化膜层的制备及耐蚀性研究

摘要：

采用含硅酸钠14g/LK、氟化钠14g/L、氢氧化钠2g/L和甘油5 mL/L的电解液,以微弧氧化技术在ZE10镁合金的表面成功制备了微弧氧化膜.采用涡流测厚仪、扫描电镜、X射线衍射、电化学工作站等,研究了电压和时间对镁合金微弧氧化膜的厚度、表面形貌和耐蚀性的影响.结果表明,微弧氧化膜层主要由MgO、MgF2和Mg2SiO4及少量非晶态物质组成.随着电压的增大,膜层不断增厚.随着氧化时间的延长,膜厚迅速增加,20 min后膜层厚度基本稳定.微弧氧化膜的耐蚀性随着电压的增大和时间的延长均呈现先增强后降低的趋势.脉冲占空比和频率对膜层的耐蚀性也有一定的影响.

关键词：镁合金、微弧氧化、硅酸盐、耐蚀性

所属期刊栏目：30

分类号：TG178(金属学与热处理)

资助基金：广东省科技计划2008B010600043

在线出版日期：2011-07-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：35-38