低红外发射率半导体颜料的制备方法与应用现状
论述了低红外发射率半导体颜料研究的必要性,介绍了低发射率半导体颜料的特性、研究进展与制备方法.建议低发射率半导体颜料的研究按以下方面进行:深入研究半导体的掺杂理论,探索半导体颜料掺杂含量对涂料红外性能的影响,不同半导体颜料的制备方法和工艺条件的选择研究,以及不同颜色体系的半导体颜料的合成等.
伪装涂料、半导体颜料、低红外发射率、掺杂
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TQ628.1
2010-12-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
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伪装涂料、半导体颜料、低红外发射率、掺杂
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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