电沉积制备铁-镍因瓦合金的工艺研究

摘要：

采用硫酸盐镀液体系,在紫铜箔上电沉积制备了Fe-Ni合金镀层,研究了镀液成分(如镀液中添加剂含量.Ni2+/Fe2+浓度比)及主要的沉积工艺参数(包括阴极电流密度、温度和搅拌速率)对镀层表面质量、成分及组织的影响.镀液成分及最佳工艺参数为:0.3 mol/L NiSO4·6H2O,0.08 mol/L FeSO4·7H2O,2g/L糖精,0.35 g/L 1,4-丁炔二醇,电流密度3.7 A/dm2,施镀温度40℃,搅拌速率200 r/min.

关键词：因瓦合金、铁镍合金镀层、硫酸盐、电沉积、工艺参数

所属期刊栏目：28

分类号：TQ153.2

在线出版日期：2009-06-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：9-12