10.3969/j.issn.1004-227X.2007.07.007
火箭炮高能电池盖体的化学抛光工艺
介绍了火箭炮高能电池盖体的前处理工艺流程、脱膜溶液配方和化学抛光工艺规范.确定使用H2SO4、HCl和少量HNO3在60~70 ℃条件下进行脱膜,在H3PO4、HCl和HNO3组成的化学抛光溶液中进行抛光,可以保证电池盖板材料和导流柱白色光亮,玻璃无损.该工艺达到用户对零件的品质要求.
火箭炮、电池盖体、化学抛光、脱膜
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TG175.1(金属学与热处理)
2007-08-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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