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10.3969/j.issn.1004-227X.2005.07.007

铝硅合金上化学沉积Ni-Cu-P合金镀层的工艺及性能研究

引用
研究了铝-硅合金表面化学沉积Ni-Cu-P的工艺条件,探讨了镀液组成对镀速的影响,确定了最佳工艺条件为:ρ(硫酸镍)为30~40 g/L, ρ(硫酸铜)为0.6~0.8 g/L,ρ(次磷酸钠)为25~30 g/L, ρ(柠檬酸钠)为40~50 g/L, ρ(醋酸铵)为30~35 g/L,温度为80 ℃,pH值为6.0.通过扫描电镜、X-射线衍射法探讨了合金镀层的形貌与结构.测定了镀层硬度和阳极极化曲线,结果表明:以该配方所得的镀层表面平整、光亮;未经热处理的镀层呈非晶态结构,随着热处理温度的升高,镀层的显微硬度先增后降,当温度达到400 ℃时,镀层结构晶体化,其显微硬度达到最大,为1 050 HV;镀层在3种介质中的耐蚀性顺序为:硫酸(体积分数为10%)>氯化钠(质量分数为10%)>氢氧化钠(质量分数为10%).

化学沉积、铝硅合金、Ni-Cu-P

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TQ153.2

2005-08-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

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