电沉积Ni/Al2O3复合镀层的研究

摘要：

采用电沉积方法制备了Ni/Al2O3复合镀层,并对电沉积过程及镀层性能进行了研究.结果 表明:与纯镍镀层相比,Ni/Al2O3复合镀层的沉积电位发生了正移,约为-0.9 V;Ni/Al2O3复合镀层的电结晶过程符合Scharifker-Hills瞬时成核模型;Ni/Al2O3复合镀层由细小的塔尖状颗粒组成,其平均晶粒尺寸为48.6 nm.

关键词：电沉积、Ni/Al2O3复合镀层、瞬时成核

所属期刊栏目：39

分类号：TQ153

在线出版日期：2019-10-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：20-22