化学复合镀Ni-P-SiO2机制的研究

摘要：

采用开路电位-时间曲线、阴极极化曲线、不同测试电位下的交流阻抗图谱等电化学测试手段,对化学复合镀Ni-P-SiO2的机制进行了研究.结果 表明:基体在化学复合镀Ni-P-SiO2溶液中具有最佳的反应时间,不考虑温度时最佳的反应时间为4 000 s.向镀液中加入SiO2微粒可以增加膜电阻,对Ni-P合金的沉积具有阻化作用.通过研究次磷酸钠的阳极氧化行为发现,交流阻抗曲线由高频的电感弧和低频的电容孤组成.加入Ni2+可使电化学反应电阻明显降低,使得次磷酸钠的氧化反应更容易进行.

关键词：开路电位-时间曲线、阴极极化曲线、极化度、交流阻抗图谱、阳极氧化行为

所属期刊栏目：39

分类号：TQ153

在线出版日期：2020-08-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：56-59