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10.3969/j.issn.1000-4742.2017.05.012

镁合金微弧氧化膜的制备及其性能研究

引用
通过对微弧氧化电解液进行优化,得出了最佳配方,并对微弧氧化膜的性能进行了测试.镁合金微弧氧化的最佳工艺条件为:Na2SiO320 g/L,Na2 B4O7 30 g/L,NaOH 30 g/L,氧化时间20min.向电解液中加入醋酸镍后,生成含有Ni2 SiO4的深灰色微弧氧化膜,该膜层较厚且耐蚀性进一步提高.微弧氧化膜表面光滑、致密,但存在少量的微孔和裂纹.微弧氧化膜的主要成分为MgO、Mg2 SiO4、Ni2 SiO4和SiO2,微弧氧化处理显著提高了镁合金基体的耐蚀性.

镁合金、微弧氧化、醋酸镍、性能测试

37

TG174(金属学与热处理)

2017-10-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

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电镀与环保

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