10.3969/j.issn.1000-4742.2017.03.004
无氰碱性低锡铜-锡合金电镀工艺
研究出一种无氰碱性低锡铜-锡合金电镀工艺.该工艺具有镀液成分简单、工艺稳定、节能降耗等优点.通过实验确定了最佳的镀液配方和工艺条件为:CuSO4·5H2O 45~55 g/L,K2 CO340~60 g/L,Na2 SnO3·3H2O8~12 g/L,铜螯合剂190~230 mL/L,锡螯合剂30~40 mL/L,辅助调节剂6~10 mL/L,pH值10~11,电流密度1.4~2.0 A/dm2,温度45~55℃.
无氰、碱性、低锡、铜-锡合金、镀液成分、工艺规范
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TQ153
2017-06-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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