10.3969/j.issn.1000-4742.2015.04.004
电沉积Cu-SiC复合镀层的研究
在概述电沉积Cu-SiC复合镀层工艺流程的基础上,开展实验研究.分别考察了电流密度和整平剂的质量浓度对沉积速率、Cu-SiC复合镀层的表面粗糙度及微观形貌的影响.结果表明:电流密度和整平剂的质量浓度处于合理范围内,均有助于提高沉积速率并改善复合镀层的表面状况和形貌质量.
Cu-SiC复合镀层、电沉积、沉积速率、表面粗糙度、微观形貌
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TQ153
广西高校科学技术研究项目KY2015ZD130,201106LX537
2015-08-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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