10.3969/j.issn.1000-4742.2015.02.005
用BP神经网络和遗传算法优化电沉积Cu-W的工艺参数
用神经网络和遗传算法(BP-GA)优化电沉积Cu-W的工艺参数.结果显示:BP-GA预测结果与试验结果较接近,相对误差为9.05%,说明BP-GA优化电沉积工艺参数有较高的预测能力和准确度.
BP-GA、电沉积、Cu-W、工艺参数
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TQ153
国家自然科学基金50964008;贵州省科学技术基金黔科合J字[2012]2114号
2015-04-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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