塑料薄膜屏蔽材料的生产工艺

摘要：

对塑料薄膜进行低温等离子体表面处理,磁控溅射Ni-Cr过渡层、Cu植晶层后再电镀,所得镀层致密且结合力好.讨论了等离子体处理时间、磁控溅射过渡层和植晶层对后续镀层结合力的影响.指出了镀镍的工艺条件控制对镀层应力的影响.采用该工艺制备的屏蔽材料质量轻、价格低、有较好的机械性能,在电磁屏蔽领域应用广泛.

关键词：塑料薄膜、低温等离子体、磁控溅射、电镀、屏蔽、结合力

所属期刊栏目：33

分类号：TQ153

在线出版日期：2013-06-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：34-36