铜掩蔽剂在连续镀镍中的应用

摘要：

研究了一种在连续化电镀过程中,可有效地去除溶液中铜杂质的工艺方法.向连续镀镍溶液中添加一种铜掩蔽剂,可以使镀层中铜的质量分数降低80％左右,且不影响溶液体系中杂质的积累和镀层的物理性能及电流效率.此工艺方法适用于连续化电镀生产.

关键词：连续化、镀镍、铜、掩蔽剂

所属期刊栏目：32

分类号：TQ153

在线出版日期：2012-11-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：4-6