10.3969/j.issn.1000-4742.2004.04.004
Ni-SiC纳米复合电镀工艺的研究
分析了镀液中纳米SiC悬浮量、阴极电流密度、镀液pH值、温度以及搅拌速度对复合沉积层中纳米SiC复合量和共沉积速率的影响,同时用正交实验法优选了各工艺参数,并且对Ni-SiC纳米复合镀层进行了表面形貌和能谱分析.结果表明,Ni-SiC纳米复合镀层表面平整光滑,显微组织均匀、致密,并且,其显微硬度也较纯镍镀层有明显提高.
纳米复合镀层、表面形貌、工艺参数、显微硬度
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TG153.43(金属学与热处理)
国家自然科学基金50075040
2004-08-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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