玻璃基板化学镀工艺
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10.3969/j.issn.1000-4742.2003.03.008

玻璃基板化学镀工艺

引用
@@ 1前言 近年来计算机等外部记录装置多数使用固定磁盘装置.磁盘上搭载的磁盘基板,过去是在非磁性铝板上化学镀非磁性的Ni-P合金镀层,随着磁盘的高记录密度化和小型薄板化,希望采用容易小型薄板化且可获得高平滑性的玻璃基板,然而玻璃基板上难以形成附着性和平滑性十分优良的化学镀Ni-P合金镀层.

玻璃基板、化学镀工艺、合金镀层、磁盘基板、平滑性、非磁性、记录装置、小型、薄板、计算机、附着性、铝板、度化、搭载

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TQ153

2003-11-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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电镀与环保

1000-4742

31-1507/X

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2003,23(3)

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