MPCVD中基片加热材料的温度场摄动模型研究

摘要：

为改进微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置中的加热系统,提出了用基片加热材料替代常规加热方式的新的技术路线;建立了基片加热材料的微波轴对称温度场模型并得到了一般解;通过对基片加热材料的微波设计,在MPCVD装置中获得大于基片台直径的均匀温度分布区.

关键词：基片加热材料、化学气相沉积、微波等离子体化学气相沉积、摄动技术

所属期刊栏目：17

分类号：TM154.3(电工基础理论)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：495-498