N注入过程中Ti薄膜内的晶体结构变化
利用电子束加热沉积（EBD）法在经洁净处理的NaCl基板表面沉积Ti薄膜,并利用离子加速器向薄膜中注入62keV N＋2离子,分析了N注入前后Ti薄膜中的晶体结构变化.透射电镜（TEM）观察结果表明,N原子的侵入导致Ti薄膜发生hcp-fcc相变,部分hcp-Ti转变成fcc-TiNy;N原子占据晶格中八面体间隙位置产生晶格畸变而导致的内应力可能是hcp-fcc相变的驱动力之一.随着薄膜中N含量的增加,hcp-Ti减少,fcc-TiNy成分增多.利用电子能量损失谱（EELS）测定了Ti薄膜的能量损失变化,分析认为由于N的侵入,Ti原子与N原子结合形成了TiNy化合物,N 2p外层电子主要和Ti 3p-4s形成杂化轨道而成键.
Ti薄膜、离子注入、hcp-fcc相变、EELS、杂化轨道
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TG11(金属学与热处理)
中央高校基本科研业务费专项资金资助项目N090402005;国家自然科学基金青年基金资助项目50901016;教育部留学归国人员科研启动基金资助项目20124302
2013-02-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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