10.3969/j.issn.1005-3026.2011.05.020
图案几何参数对硅晶圆片表面吸收率的影响
利用时域有限差分法(FDFD)研究了晶圆片中SiO2沟槽尺寸变化对其表面吸收率的影响.同时利用等效介质理论(EMT)对预测结果进行了进一步解释分析.计算结果表明,次波长光栅时,EMT可以很好地预测光谱吸收率的变化;当SiO2沟槽宽度增加时腔共振效应提高了晶圆片表面的吸收率;当光栅周期与入射波长大小相当且填充比不是很小时,吸收率曲线在短波长区会出现较为强烈的震荡.
时域有限差分法、等效介质理论、吸收率、图案晶圆片
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O436.2(光学)
国家高技术研究发展计划项目2009AA05Z215,2008AA042901
2015-07-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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