图案几何参数对硅晶圆片表面吸收率的影响

摘要：

利用时域有限差分法(FDFD)研究了晶圆片中SiO2沟槽尺寸变化对其表面吸收率的影响.同时利用等效介质理论(EMT)对预测结果进行了进一步解释分析.计算结果表明,次波长光栅时,EMT可以很好地预测光谱吸收率的变化;当SiO2沟槽宽度增加时腔共振效应提高了晶圆片表面的吸收率;当光栅周期与入射波长大小相当且填充比不是很小时,吸收率曲线在短波长区会出现较为强烈的震荡.

关键词：时域有限差分法、等效介质理论、吸收率、图案晶圆片

所属期刊栏目：32

分类号：O436.2(光学)

资助基金：国家高技术研究发展计划项目2009AA05Z215,2008AA042901

在线出版日期：2015-07-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：687-690