10.3321/j.issn:1005-3026.2008.06.032
用PEM监控制备TiO2薄膜及其光学性能的研究
使用金属钛作靶材,利用中频反应磁控溅射方法在玻璃基底上制备了TiO2薄膜.为使反应溅射的工作点能够稳定在"过渡区", 使薄膜获得理想的化学配比和较高的沉积速率,使用了等离子体发射光谱监控法(PEM)对溅射过程进行控制.利用台阶仪测膜厚,用X射线衍射仪、原子力显微镜、分光光度计以及光学薄膜测试分析仪等手段对TiO2薄膜的结构以及光学性能进行表征,研究了不同工艺条件对薄膜结构和光学性能的影响.结果表明,较高的PEM工作点下制备的TiO2薄膜具有较高的折射率,使用PEM控制的中频反应磁控溅射方法可以制备出性能良好的TiO2光学薄膜.
TiO2薄膜、反应溅射、PEM控制、光学性能、薄膜结构
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O484.41(固体物理学)
国家高技术研究发展计划项目2004AA303540
2008-07-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
885-888