GA3对霍山石斛生长及高温胁迫的调控效应

摘要：

为了研究赤霉素(gibberellin,GA3)对霍山石斛(Dendrobidium huoshanness)生长的影响及对其高温胁迫的调控效应,实验对二年生霍山石斛进行2 d高温处理(昼/夜温度分别为38±2℃/28±2℃),处理后对叶面喷施GA3,7 d一次,喷施三次,处理后21 d测定各指标.实验结果表明,常温下(昼/夜温度分别为25±2℃/17±2℃)喷施GA3可以提高霍山石斛叶片SOD活性、叶片叶绿素含量、根系活力、茎高、茎粗、叶长、叶宽、叶面积与产量,对根长、叶片MDA含量、茎中多糖含量影响不显著.高温胁迫后,霍山石斛叶片MDA含量升高;各形态指标、叶片SOD活性、叶片叶绿素含量、根系活力、茎中多糖含量与产量均有下降.喷施GA3显著改善霍山石斛的生长及品质,缓解了高温胁迫导致的不良影响.

关键词：GA3、霍山石斛、高温胁迫

所属期刊栏目：22

分类号：Q945.78(植物学)

资助基金：安徽省教育厅自然科学基金重点项目"外源物质对极端温度胁迫下霍山石斛产量和品质的调控机理";皖西学院省级大学生创新创业训练项目

在线出版日期：2020-12-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

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