10.3969/j.issn.1673-1794.2007.03.013
直流磁控溅射Au膜微结构研究
用直流磁控溅射技术在室温下制备了厚度为108和215nmAu膜.利用常规CBD扫描模式对Au膜微结构进行分析.XRD分析表明Au膜在平行于基片表面沿〈111〉方向择优生长;薄膜的晶格常数与金粉末的品格常数(a=4.0862(A))一致,晶粒尺寸随膜厚变化不明显.
组件、框架、模块
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O484(固体物理学)
2008-03-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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