10.19594/j.cnki.09.19701.2022.01.001
沉积时间对旋转喷涂法制备的NiZn铁氧体薄膜的影响
采用旋转喷涂法低温沉积制备NiZn铁氧体薄膜,研究了沉积时间对薄膜相结构、显微形貌和磁性能的影响.结果表明,随着沉积时间延长,平均晶粒尺寸逐渐增大,(222)方向择优取向先增强后减弱,沉积速率先减小后稳定,随着薄膜厚度逐渐增大,晶粒的柱状结构也越发明显,结晶性能提高.NiZn铁氧体薄膜的饱和磁化强度Ms增高,矫顽力Hc降低,100 MHz的磁导率μ′增大,截止频率fr从0.32 GHz降低至0.23 GHz.但是无论沉积时间长短,各薄膜均存在磁损耗角正切(μ"/μ′)过高的问题.
NiZn铁氧体薄膜、旋转喷涂法、低温沉积、沉积时间、磁性能
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TM273;TB383(电工材料)
2022-04-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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