Bi/Pt底层对Co/Ni多层膜反常霍尔效应的影响

摘要：

采用直流磁控溅射法在玻璃基片上制备了一系列分别以Pt和Bi/Pt为底层的Co/Ni多层膜样品。通过研究Bi的厚度、周期层数、周期层中的Co和Ni的厚度以及退火温度对样品反常霍尔效应的影响，最终获得了霍尔效应最强、良好的霍尔曲线矩形度，同时具有良好的垂直各向异性的最佳样品Bi(1nm)/Pt(5nm)/[Co(0.3nm)Ni(0.5nm)]1/ Co(0.3nm)/Pt(1nm)。实验表明，退火处理有利于增强反常霍尔效应。

关键词：Co/Ni多层膜、反常霍尔效应、霍尔电阻、垂直各向异性

所属期刊栏目：47

分类号：O484.3;TM27(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金;北京工商大学特色科研团队项目;北京市大学生科研计划

在线出版日期：2016-05-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：12-14,79