厚度对M型钡铁氧体薄膜结构及磁性能的影响

摘要：

采用射频(RF)磁控溅射法在蓝宝石基片上制备M型钡铁氧体(BaM)薄膜,研究了薄膜厚度对BaM铁氧体薄膜的结构及磁性能影响.结果显示,样品的衍射峰全部为BaM薄膜的(00l)衍射峰,表明样品都具有良好的c轴取向性.显微结构分析结果表明,在膜厚为40~90nm范围内,薄膜样品表面主要为c轴取向的片状晶粒,未出现c轴随机取向的针状晶粒;当样品厚度增加至140nm时,出现了较明显的针状晶粒;随着薄膜厚度进一步增加到190nm时,样品表面出现了大量c轴随机取向的针状晶粒,且部分针状晶粒长度达到了μm级.磁性能测试结果显示,随着薄膜厚度的增加,薄膜样品饱和磁化强度降低,垂直膜面方向矫顽力和剩磁比减小,膜厚40~90nm范围的薄膜在垂直膜面方向获得了最大剩磁比和矫顽力,表现出较好的磁晶各向异性.

关键词：M型钡铁氧体薄膜、射频磁控溅射、薄膜厚度、c轴择优取向、磁性能

所属期刊栏目：46

分类号：TM277;O484.4+3(电工材料)

资助基金：国家自然科学基金资助项目51101028

在线出版日期：2015-12-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：21-24,36