10.3969/j.issn.1001-3830.2012.03.010
矩形铁氧体衬底抗蚀剂的旋涂特性
采用半导体工艺的旋转涂胶法,在矩形铁氧体衬底上旋涂抗蚀剂,研究了其涂覆特性,给出了抗蚀剂的厚度与旋涂转速和旋涂时间的关系曲线及均匀性.随着旋涂转速的提高,抗蚀剂的厚度逐渐减薄;当旋涂转速大于2500r/min时,抗蚀剂厚度差小于5%.同时,随着旋涂时间的延长,抗蚀剂厚度也会减小,并最终趋向一个恒定值;当旋涂时间长于20s时.抗蚀剂厚度差小于5%.最后,分析了旋涂中心对抗蚀剂旋涂性能的影响.
铁氧体衬底、光刻、抗蚀剂、旋涂
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TN3(半导体技术)
中国电子科技集团公司技术创新基金资助项目JJ1025
2012-07-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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