10.3969/j.issn.1001-3830.2010.02.005
丝网印刷及磁场取向制备钡铁氧体厚膜研究
采用丝网印刷工艺在氧化铝陶瓷基片上制备了六角钡铁氧体厚膜,研究了外加磁场对厚膜磁特性的影响,用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和振动样品磁强计(VSM)对样品进行表征.结果表明,垂直膜面磁场取向后,剩余磁化强度(Mr)大大增加.随着取向磁场的增高,矩形比(Mr/Ms)由未取向时的0.54提高到0.84.可以通过增加膜的致密度和消除不均匀性来进一步提高矩形比.该厚膜具有自偏置特性,在自偏置微波器件中具有应用潜力.
钡铁氧体厚膜、丝网印刷、磁场取向、矩形比
41
TM277(电工材料)
2010-05-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
22-24,45