氧化液pH值对低温沉积Ni-Zn铁氧体薄膜的结构和磁性能的影响

摘要：

用FeCl2+NiCl2+ZnCl2组成的还原液和CH3COONH4+NH3H2O+NaNO2组成的氧化液不断地向转盘上的玻璃基片喷镀,在90℃下反应制备了厚度1～2 μm的Ni-Zn铁氧体薄膜.X射线衍射(XRD)显示制备的薄膜具有尖晶石结构铁氧体的特征衍射峰.当氧化液的pH值从8.0增大到8.8时,薄膜的沉积速率和表面粗糙度都相应提高.氧化液pH值等于8.8时薄膜组成为Ni2+0.43Zn2+0.09Fe2+0.48Fe3+2O4.制备的薄膜显示了210.3kA/m的高饱和磁化强度和1.218kA/m的低矫顽力.这种优良的软磁薄膜可应用于射频感应器和微波频段的电磁干扰抑制器.

关键词：Ni-Zn铁氧体薄膜、旋转喷镀法、微结构、磁性能

所属期刊栏目：38

分类号：TM277+.1;O482.4+3(电工材料)

在线出版日期：2007-08-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：33-35