10.3969/j.issn.1001-3830.2001.06.003
脉冲激光沉积(PLD)法制备NiZn铁氧体多晶薄膜研究
采用脉冲激光沉积(PLD)法分别在硅和玻璃基片上沉积了NiZn铁氧体多晶薄膜.实验表明:基片温度、氧气压以及热处理对薄膜的沉积速率、磁性能有很大影响.
脉冲激光沉积、NiZn铁氧体薄膜、磁性能
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TM277+.4(电工材料)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
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10.3969/j.issn.1001-3830.2001.06.003
脉冲激光沉积、NiZn铁氧体薄膜、磁性能
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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