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10.3321/j.issn:0253-9837.2003.06.004

Rh/SiO2催化剂上甲烷部分氧化制合成气反应

引用
利用程序升温脱附、程序升温还原、程序升温表面反应、程序升温反应和化学捕获反应等手段,对Rh/SiO2催化剂上甲烷部分氧化制合成气反应进行了研究. 结果表明,Rh/SiO2催化剂上甲烷部分氧化制合成气机理属于热解-氧化反应机理. 甲烷首先在催化剂上发生解离吸附,产生具有不同H/C比的化学吸附物种CHx(x=1~3). 其中,具有较高H/C比的CHx可能是甲烷部分氧化反应的活性物种, 而具有较低H/C比的CHx可能是催化剂上积碳并导致催化剂失活的来源. 活性物种CHx在活性氧物种的作用下,生成含氧中间体物种CHxO或继续脱氢. 含氧中间体物种进一步分解,即生成CO和H2; CO2也可由CHx或CHxO物种进一步氧化生成.

铑、氧化硅、负载型催化剂、甲烷、部分氧化、合成气

24

O643(物理化学(理论化学)、化学物理学)

国家重点基础研究发展计划973计划G1999022408;国家自然科学基金20023001

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共7页

407-413

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0253-9837

21-1195/O6

24

2003,24(6)

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