透射式微焦点X射线源钨-金刚石靶材的制备及其性能研究

摘要：

本文采用磁控溅射镀膜技术制备了钨-金刚石透射靶材,借助电子扫描电镜对靶材的钨薄膜进行微观形貌分析.同时借助YXLON光机,研究自制靶材在X射线出射率及其产生X射线所需消耗功率和寿命等性能,并与YXLON原带靶材进行性能比较.研究表明,采用磁控溅射制备的钨薄膜与YXLON靶材上的钨薄膜具有相似的表面形貌;在YXLON光机相同工作条件下,自制靶材的X射线出射率略高于YXLON原带靶材的X射线出射率的1%,二者辐射X射线所需的功率相差无几,自制靶材的寿命要长于YXLON靶材的.这表明自制钨-金刚石靶材能够满足微焦点射线源所需的高质量靶材的应用要求.

关键词：显微计算机断层成像、磁控溅射、钨-金刚石透射靶材

所属期刊栏目：26

分类号：TP391.41(计算技术、计算机技术)

资助基金：中国科学院科研装备研制项目YZ201410

在线出版日期：2017-04-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：189-194