10.3969/j.issn.1000-582X.2001.04.039
CVD金刚石膜场发射机制的探讨
通过分析CVD金刚石膜的结构,对CVD金刚石膜的场发射机制进行了研究.结果表明金刚石膜内含有一定数量的石墨,当电子通过石墨时从石墨的电场中获得能量增大了电子隧穿金刚石晶粒的系数,据此提出了金刚石膜内石墨相增强电子隧穿金刚石颗粒以增强金刚石膜场电子发射的机制,并且根据该机制解释了一些实验现象.
CVD金刚石膜、石墨、场发射
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O484.4(固体物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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