AZ51镁合金交流微弧氧化膜层厚度的研究

摘要：

在氢氧化钾和氟化钾组成的电解液中，采用交流微弧氧化处理技术对AZ51镁合金进行表面处理。研究了处理参数对陶瓷氧化膜层厚度的影响，确定了膜层的组织构成。结果表明：KOH浓度在300～400 g／L时，膜层厚度几乎随着KOH浓度的增加呈线性增长；KF浓度在400～1000 g／L，膜层厚度增加最快；电压处于50～80 V时，能够促进膜层的快速生长；当电解液温度在20～70℃，随着电解液温度的升高，膜层厚度逐渐增加；膜层厚度随处理时间延长快速增长，超过100 s后趋于平缓。膜层主要由氟化镁和氧化镁组成，致密膜层的最大平均厚度约为30μm，膜层厚度超过30μm后，膜层将出现“沙化层”。

关键词：AZ51镁合金、交流微弧氧化、膜层生长、厚度

分类号：TG146.2(金属学与热处理)

资助基金：北京自然科学基金资助项目2102039；国家自然科学基金资助项目50974010．

在线出版日期：2015-11-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：123-128