电子束端面熔炼法制备高纯钨的研究

摘要：

采用250 kW的电子束熔炼炉对纯度为99.955％的钨棒进行提纯研究,利用扫描电镜、电感耦合等离子体光谱法(ICP-MS)和微米压痕仪分别对原料钨棒和熔炼后钨锭的形貌、纯度和显微硬度进行观察和测试.研究表明:在电子束轰击原料钨棒的过程中,钨棒端面的边缘最先熔化;经电子束熔炼后,钨棒的整体纯度显著提高,达到了99.975％,间隙杂质O和C的脱除率分别达到55.5％和45.8％;非间隙杂质的蒸汽压与脱除率密切相关,高蒸汽压的杂质元素Cd、As、K、Mg脱除较为完全,其脱除率分别为95％、90％、75％和71.4％,在钨棒中含量分别降至1、1、5和10 μg/g.

关键词：电子束熔炼、高纯钨、净化提纯、间隙杂质、非间隙杂质

所属期刊栏目：22

分类号：TF804.8(有色金属冶炼)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50774098

在线出版日期：2016-05-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：30-35