气相沉积技术制备TiN类硬质膜

摘要：

硬质膜由于具有良好的耐磨、耐蚀和耐热等特点,所以在航天、化工和机械等领域获得了日益广泛的应用,而硬质膜的组成和制备工艺也随之得到不断发展.本文综述了TiN类硬质膜的应用和制备硬质膜常用的气相沉积方法、工艺参数及其优缺点.阐明了制备工艺正向着以三束(电子束、离子束和激光束)为基础多种工艺复合的方向发展.而硬质膜正向着多元膜、梯度膜和纳米复合膜方向发展.

关键词：硬质膜、陶瓷、制备工艺、进展、气相沉积

所属期刊栏目：15

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：山东省优秀中青年科学家科研奖励基金02BS056

在线出版日期：2007-08-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：439-444